Tenable посіла перше місце серед 11 постачальників у категоріях “Стратегія” та “Поточні пропозиції”.
Компанія Tenable, що спеціалізується на управлінні ризиками вразливостей, була визнана лідером у звіті “The Forrester Wave: Vulnerability Risk Management, Q3 2023” від незалежної дослідницької фірми Forrester.
У звіті, в якому постачальники розподіляються за категоріями “Лідери”, “Сильні виконавці”, “Конкуренти” та “Претенденти”, оцінюються можливості постачальників у галузі управління ризиками вразливостей (VRM) за 28 різними критеріями. Компанія Tenable посіла перше місце серед 11 вендорів у категоріях “Стратегія” та “Поточні пропозиції” та одне з найвищих місць у категорії “Присутність на ринку”. Компанія Tenable отримала найвищий можливий бал (5,0) за 14 різними критеріями, включаючи бачення, дорожню карту та інновації.
У категорії поточних пропозицій платформа Tenable One Exposure Management Platform отримала найвищі можливі оцінки (5,0) за такими критеріями:
- Типи активів, що включають цінну інформацію про активи для кількох типів команд щодо усунення наслідків на типовому підприємстві.
- Типи впливів, що підтримують найширший спектр впливів, не пов’язаних з CVE, в яких використовуються одні й ті ж формули визначення пріоритетів, робочі процеси щодо усунення наслідків та досвід аналітиків.
- Експлуатаційна придатність з продемонстрованими чудовими моделями даних, які забезпечують лідерство в розрахунку можливої активності на вразливості, що ще не експлуатуються.
- Моделювання шляхів атак, що дозволяє проводити неінтрузивні симуляції атак для оцінки ймовірності обходу захисних систем з боку загрозливих суб’єктів, та
- Система звітності Out of the Box Reporting, що надає вражаючу велику інформацію без налаштування та тегів для осіб, що приймають рішення на різних рівнях, про те, що робити зараз і що робити далі.
“Компанія Tenable задає тон у галузі проактивної безпеки”, – йдеться у звіті Forrester. “Сьогодні її мета залишається незмінною – проактивно захищати зростаючі і динамічні поверхні атак за допомогою платформи Tenable One, однієї з перших, що застосувала категоризацію управління впливом. Впізнаваність компанії Tenable та ранній вихід на ринок платформи, що дозволяє консолідувати превентивні заходи, підтримують її чудове та стійке бачення, яке добре узгоджується з поточним напрямком розвитку ринку”.
У міру того, як компанії освоюють нові технології, поверхня атак виходить за рамки традиційних ІТ, що ускладнює кількісну оцінку ризиків та прийняття відповідних заходів. Платформа Tenable One Exposure Management Platform дозволяє організаціям отримати повний огляд усієї поверхні атаки – від ІТ- та OT-інфраструктури до веб-додатків, публічної хмари та систем ідентифікації. Вона дозволяє замовникам передбачати погрози, припиняти шляхи атак, визначати пріоритети зусиль щодо усунення наслідків та інформувати про кіберризики для прийняття більш ефективних рішень.
“Ми створили Tenable One, щоб змінити підхід організацій до ризиків”, – каже Марк Турмонд (Mark Thurmond), операційний директор компанії Tenable. “Розрізнені програми безпеки неефективні для створення кіберстійкості і не мають контексту, необхідного для ефективних дій організацій. Наш платформний підхід до управління ризиками перевертає це подання з ніг на голову. Tenable One забезпечує організаціям всебічну видимість, багаті дані про загрози та контекстно-орієнтовану аналітику ризиків для зниження ризиків, специфічних їх середовищ”.
Про компанію Tenable
Tenable® – компанія, яка займається керуванням ризиками. Близько 43 000 організацій по всьому світу покладаються на Tenable для розуміння та зниження кіберризиків. Будучи творцем Nessus®, компанія Tenable розширила свої знання та досвід у галузі вразливостей, створивши першу у світі платформу для виявлення та захисту будь-яких цифрових активів на будь-якій обчислювальній платформі. Серед клієнтів Tenable – близько 60% компаній зі списку Fortune 500, близько 40% компаній зі списку Global 2000 та великі державні установи.
Джерело: Tenable Named a Leader in Vulnerability Risk Management by Independent Research Firm
